TMAH显影液-金属离子含量测定

信息概要

TMAH显影液是半导体制造和微电子行业中常用的关键化学品，用于光刻工艺中的显影步骤。其金属离子含量直接影响芯片性能和良率，因此精准测定金属杂质浓度至关重要。第三方检测机构通过专业分析服务，帮助企业监控TMAH显影液纯度，避免因金属污染导致的电路短路、漏电或氧化层缺陷，保障半导体产品的可靠性和工艺稳定性。

检测项目

钠(Na), 钾(K), 钙(Ca), 镁(Mg), 铁(Fe), 铜(Cu), 锌(Zn), 镍(Ni), 铬(Cr), 铝(Al), 铅(Pb), 镉(Cd), 砷(As), 汞(Hg), 钴(Co), 锰(Mn), 银(Ag), 锡(Sn), 钛(Ti), 钒(V)

检测范围

半导体级TMAH显影液, 光伏级TMAH显影液, 高纯电子级TMAH, 光刻胶配套显影液, 液晶面板用显影液, 纳米压印显影液, 集成电路专用显影液, MEMS工艺显影液, 封装测试用显影液, 晶圆级封装显影液, 5nm以下制程显影液, 先进封装显影液, 柔性电子显影液, 化合物半导体显影液, 硅基光电子显影液, 第三代半导体显影液, 掩模版清洗显影液, 传感器专用显影液, 微透镜阵列显影液, 三维集成显影液

检测方法

电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)：高灵敏度检测ppt级金属杂质

原子吸收光谱法(AAS)：测定特定金属元素的常规方法

离子色谱法(IC)：分析可溶性离子态污染物

伏安法：检测重金属元素的电化学方法

X射线荧光光谱(XRF)：非破坏性快速筛查

电感耦合等离子体发射光谱(ICP-OES)：多元素同时分析

石墨炉原子吸收光谱(GFAAS)：超痕量元素检测

质谱联用技术(LC-ICP-MS)：形态分析

激光诱导击穿光谱(LIBS)：快速原位检测

中子活化分析(NAA)：超高灵敏度检测

微波消解前处理：样品制备方法

紫外可见分光光度法(UV-Vis)：特定元素定量

阳极溶出伏安法(ASV)：痕量重金属检测

毛细管电泳法(CE)：离子分离检测

总有机碳分析(TOC)：评估有机污染

检测仪器

电感耦合等离子体质谱仪, 原子吸收光谱仪, 离子色谱仪, X射线荧光光谱仪, 电感耦合等离子体发射光谱仪, 石墨炉原子吸收光谱仪, 液相色谱-质谱联用仪, 激光诱导击穿光谱仪, 微波消解系统, 紫外可见分光光度计, 电化学分析仪, 毛细管电泳仪, 总有机碳分析仪, 超纯水系统, 洁净工作台

北检院部分仪器展示