高纯度三氟乙酸含量检测标准
CNAS认证
CMA认证
DB51/T 2045-2015
高纯度五氧化二钒 氧化钾和氧化钠含量的测定方法
- 【发布单位或类别】 CN-DB51四川省地方标准
- 【发布日期】2015-09-25
- 【CCS分类】G04基础标准与通用方法
- 【ICS分类】71.040.99有关分析化学的其他标准
DB51/T 2044-2015
高纯度五氧化二钒 杂质元素含量的测定方法
- 【发布单位或类别】 CN-DB51四川省地方标准
- 【发布日期】2015-09-25
- 【CCS分类】G04基础标准与通用方法
- 【ICS分类】71.040.99有关分析化学的其他标准
ASTM D6071-14(2022)
Standard Test Method for Low Level Sodium in High Purity Water by Graphite Furnace Atomic Absorption Spectroscopy
Standard Test Method for Low Level Sodium in High Purity Water by Graphite Furnace Atomic Absorption Spectroscopy
- 【发布单位或类别】 US-ASTM美国材料与试验协会
- 【发布日期】2022-11-01
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】71.040.50物理化学分析方法
ASTM D3545-06(2012)
Standard Test Method for Alcohol Content and Purity of Acetate Esters by Gas Chromatography (Withdrawn 2021)
Standard Test Method for Alcohol Content and Purity of Acetate Esters by Gas Chromatography (Withdrawn 2021)
- 【发布单位或类别】 US-ASTM美国材料与试验协会
- 【发布日期】2012-06-01
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】87.060.30溶剂
ASTM D3545-06
Standard Test Method for Alcohol Content and Purity of Acetate Esters by Gas Chromatography
Standard Test Method for Alcohol Content and Purity of Acetate Esters by Gas Chromatography
- 【发布单位或类别】 US-ASTM美国材料与试验协会
- 【发布日期】2006-06-01
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】87.060.30溶剂
ASTM D3545-95
Standard Test Method for Alcohol Content and Purity of Acetate Esters by Gas Chromatography
Standard Test Method for Alcohol Content and Purity of Acetate Esters by Gas Chromatography
- 【发布单位或类别】 US-ASTM美国材料与试验协会
- 【发布日期】2002-01-10
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】87.060.30溶剂
ASTM D3545-02
Standard Test Method for Alcohol Content and Purity of Acetate Esters by Gas Chromatography
Standard Test Method for Alcohol Content and Purity of Acetate Esters by Gas Chromatography
- 【发布单位或类别】 US-ASTM美国材料与试验协会
- 【发布日期】2002-01-10
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】87.060.30溶剂
ASTM F2113-01(2011)
Standard Guide for Analysis and Reporting the Impurity Content and Grade of High Purity Metallic Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications (Withdrawn 2020)
Standard Guide for Analysis and Reporting the Impurity Content and Grade of High Purity Metallic Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications (Withdrawn 2020)
- 【发布单位或类别】 US-ASTM美国材料与试验协会
- 【发布日期】2011-06-01
- 【CCS分类】
- 【ICS分类】29.045半导体材料
