静态二次离子质谱（Static-SIMS）

信息概要

静态二次离子质谱（Static-SIMS）是一种表面分析技术，通过低剂量离子束轰击样品表面，检测溅射出的二次离子，从而获得表面化学成分和分子结构信息。该技术具有高灵敏度、高分辨率和无损检测的特点，广泛应用于材料科学、生物医学、半导体等领域。检测的重要性在于能够精确表征材料表面成分，为产品质量控制、失效分析、工艺优化等提供关键数据支持。

检测项目

表面元素组成，分子结构分析，污染物检测，薄膜厚度测量，表面化学态分析，界面扩散研究，掺杂浓度测定，氧化层分析，有机污染物鉴定，无机污染物鉴定，表面修饰层分析，聚合物表征，金属杂质检测，纳米颗粒分布，表面缺陷分析，化学键合状态，同位素分布，表面反应产物，材料均匀性评估，表面能测定

检测范围

半导体材料，金属合金，聚合物薄膜，生物材料，纳米材料，陶瓷材料，涂层材料，复合材料，玻璃材料，光电材料，催化剂，电池材料，医疗器械，环境样品，食品包装材料，化妆品，药品，纤维材料，橡胶材料，印刷电路板

检测方法

静态二次离子质谱法（Static-SIMS）：通过低剂量离子束轰击样品表面，检测溅射出的二次离子。

飞行时间二次离子质谱法（TOF-SIMS）：结合飞行时间分析器，提高质量分辨率和检测灵敏度。

X射线光电子能谱法（XPS）：用于表面元素组成和化学态分析。

俄歇电子能谱法（AES）：用于表面元素组成和化学态分析。

傅里叶变换红外光谱法（FTIR）：用于表面分子结构分析。

拉曼光谱法（Raman）：用于表面分子结构分析。

原子力显微镜法（AFM）：用于表面形貌和力学性能分析。

扫描电子显微镜法（SEM）：用于表面形貌和元素分布分析。

透射电子显微镜法（TEM）：用于表面形貌和元素分布分析。

辉光放电质谱法（GD-MS）：用于体相元素组成分析。

电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）：用于体相元素组成分析。

二次离子质谱成像法（SIMS Imaging）：用于表面元素和分子分布成像。

深度剖析法（Depth Profiling）：用于表面层和界面成分分析。

热脱附质谱法（TDS）：用于表面吸附物种分析。

离子散射谱法（ISS）：用于表面元素组成分析。

检测仪器

静态二次离子质谱仪（Static-SIMS），飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS），X射线光电子能谱仪（XPS），俄歇电子能谱仪（AES），傅里叶变换红外光谱仪（FTIR），拉曼光谱仪（Raman），原子力显微镜（AFM），扫描电子显微镜（SEM），透射电子显微镜（TEM），辉光放电质谱仪（GD-MS），电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS），二次离子质谱成像仪（SIMS Imaging），深度剖析仪（Depth Profiling），热脱附质谱仪（TDS），离子散射谱仪（ISS）

北检院部分仪器展示