二次离子质谱(SIMS)表面成分分析

信息概要

二次离子质谱(SIMS)表面成分分析是一种高灵敏度的表面分析技术，通过聚焦离子束轰击样品表面，检测溅射出的二次离子，实现对材料表面成分的定性和定量分析。该技术广泛应用于半导体、薄膜材料、生物材料等领域，对于研究材料表面化学组成、杂质分布、界面特性等具有重要意义。通过SIMS分析，可以精确检测痕量元素、同位素分布以及深度剖面信息，为产品质量控制、工艺优化和失效分析提供关键数据。

检测项目

元素成分分析，同位素比值测定，深度剖面分析，表面污染物检测，掺杂浓度测量，界面扩散研究，氧化层分析，薄膜厚度测量，有机材料表征，无机材料表征，金属杂质检测，非金属杂质检测，痕量元素分析，表面化学反应研究，材料均匀性评估，晶界偏析分析，腐蚀产物鉴定，涂层成分分析，生物材料表面成分，纳米材料表征

检测范围

半导体材料，金属材料，陶瓷材料，聚合物材料，生物材料，纳米材料，薄膜材料，涂层材料，复合材料，玻璃材料，矿物样品，环境颗粒物，催化剂材料，电子器件，光学材料，医疗器械，能源材料，化工产品，考古样品，地质样品

检测方法

静态SIMS：用于表面单分子层分析，提供高分辨率质谱信息

动态SIMS：用于深度剖面分析，可检测元素分布

飞行时间SIMS(TOF-SIMS)：具有高质量分辨率和成像能力

磁扇形SIMS：适用于高精度同位素比值测定

四极杆SIMS：用于常规元素分析，操作简便

离子成像SIMS：提供元素空间分布信息

深度剖析SIMS：通过连续溅射获得成分随深度变化

高分辨率SIMS：用于区分质量相近的离子

低能离子SIMS：减少样品损伤，提高表面灵敏度

高能离子SIMS：增加溅射产额，提高检测限

多束SIMS：结合不同离子源提高分析效率

3D-SIMS：通过层析重建获得三维成分分布

同位素比值SIMS：精确测定同位素丰度

微量分析SIMS：针对痕量成分的高灵敏度检测

定量SIMS：通过标准样品建立校准曲线

检测仪器

TOF-SIMS 5, NanoSIMS 50L, IMS 7f-auto, SIMS 1280-HR, PHI nanoTOF II, SIMS 4550, TRIFT II, SIMS 1910, SIMS 1910-GPD, Cameca IMS WF, Hiden SIMS Workstation, SIMS IV, SIMS V, SIMS VI, SIMS VII

北检院部分仪器展示