表面污染全反射X荧光（TXRF）

信息概要

表面污染全反射X荧光（TXRF）是一种高灵敏度、非破坏性的表面污染检测技术，广泛应用于半导体、电子、医药、环境监测等领域。该技术通过全反射X射线激发样品表面元素，实现对痕量污染物的快速、精准分析。检测表面污染对于确保产品质量、提高工艺稳定性以及满足环保法规要求具有重要意义。TXRF技术特别适用于检测纳米级薄膜、颗粒污染物以及超低浓度金属杂质，是现代化工业质量控制与研发的关键工具。

检测项目

金属杂质（如钠、镁、铝、钾、钙、钛、铬、锰、铁、镍、铜、锌、砷、镉、锡、锑、铅、汞、钡、钨）, 有机污染物, 无机污染物, 颗粒物, 薄膜厚度, 表面元素分布, 氧化层成分, 残留化学品, 电镀层成分, 腐蚀产物, 掺杂元素, 纳米颗粒, 离子污染, 硅片表面污染, 晶圆缺陷, 半导体材料纯度, 环境粉尘, 生物样品污染, 医药残留物

检测范围

半导体晶圆, 电子元件, 光伏材料, 光学薄膜, 医疗器械, 药品包装材料, 食品接触材料, 环境水样, 空气颗粒物, 化工产品, 金属镀层, 陶瓷材料, 玻璃制品, 塑料制品, 纺织品, 涂料, 润滑油, 电池材料, 催化剂, 纳米材料

检测方法

全反射X射线荧光光谱法（TXRF）：利用全反射原理检测表面痕量元素。

能量色散X射线荧光光谱法（ED-XRF）：通过能量差异分析元素成分。

波长色散X射线荧光光谱法（WD-XRF）：通过波长差异实现高分辨率分析。

掠入射X射线荧光法（GI-XRF）：用于薄膜和界面分析。

同步辐射TXRF：利用同步辐射光源提高检测灵敏度。

微区TXRF：实现样品表面微米级区域分析。

全反射X射线荧光成像：获取表面元素分布图像。

化学辅助TXRF：通过化学处理增强特定元素信号。

真空TXRF：减少空气散射，提高轻元素检测能力。

低温TXRF：用于易挥发样品分析。

偏振TXRF：降低背景噪声，提高信噪比。

单色化TXRF：使用单色X射线提高检测精度。

时间分辨TXRF：研究表面污染动态变化。

多毛细管聚焦TXRF：提高X射线通量和空间分辨率。

便携式TXRF：实现现场快速检测。

检测仪器

全反射X射线荧光光谱仪, 能量色散X射线荧光光谱仪, 波长色散X射线荧光光谱仪, 同步辐射TXRF设备, 微区TXRF分析系统, X射线荧光成像系统, 真空TXRF设备, 低温TXRF样品室, 偏振TXRF装置, 单色化TXRF系统, 时间分辨TXRF检测器, 多毛细管聚焦TXRF设备, 便携式TXRF分析仪, X射线发生器, 硅漂移探测器

北检院部分仪器展示