半导体洁净车间AMC气溶胶监测是确保生产环境空气质量符合高标准要求的关键环节。AMC(Airborne Molecular Contamination)指空气中存在的分子级污染物,可能对半导体制造过程造成严重影响。第三方检测机构通过专业设备和技术手段,对洁净车间内的气溶胶污染物进行精准监测,确保生产环境的洁净度达标。检测的重要性在于避免污染物对晶圆表面的损害,提高产品良率,同时满足行业标准及客户要求。
总挥发性有机化合物(TVOC), 氨气(NH3), 硫化氢(H2S), 二氧化硫(SO2), 氮氧化物(NOx), 臭氧(O3), 甲醛(HCHO), 苯系物(BTEX), 氯化氢(HCl), 氟化氢(HF), 磷酸盐(PO4), 硅氧烷(Siloxanes), 颗粒物(PM2.5/PM10), 重金属(如铅、镉、汞), 酸性气体(如HNO3、H2SO4), 碱性气体(如NH3、胺类), 碳氢化合物(HC), 硫化物(如CS2、COS), 卤代烃(如CFC、HCFC), 多环芳烃(PAHs)
半导体制造车间, 晶圆加工区, 光刻区, 刻蚀区, 沉积区, 清洗区, 封装区, 无尘室, 空调系统, 通风管道, 气体供应系统, 化学品存储区, 废水处理区, 废气排放口, 设备内部环境, 人员操作区, 物料传输区, 实验室环境, 洁净走廊, 更衣室
气相色谱-质谱联用法(GC-MS):用于检测挥发性有机化合物和半挥发性有机化合物。
高效液相色谱法(HPLC):适用于分析高沸点或热不稳定的有机污染物。
离子色谱法(IC):用于检测无机阴阳离子,如氟化物、氯化物等。
傅里叶变换红外光谱法(FTIR):实时监测多种气体污染物。
紫外-可见分光光度法(UV-Vis):测定特定气体或颗粒物的浓度。
原子吸收光谱法(AAS):用于重金属元素的定量分析。
电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS):高灵敏度检测痕量金属元素。
激光粒子计数器:实时监测空气中颗粒物的数量和粒径分布。
静电计法:测量带电颗粒物的浓度。
化学发光法:用于检测氮氧化物和臭氧等气体。
电化学传感器法:实时监测特定气体浓度。
β射线吸收法:测定颗粒物质量浓度。
光散射法:快速检测空气中颗粒物的浓度。
被动采样法:长期监测低浓度污染物。
活性炭吸附-溶剂解析法:采集并分析有机污染物。
气相色谱-质谱联用仪(GC-MS), 高效液相色谱仪(HPLC), 离子色谱仪(IC), 傅里叶变换红外光谱仪(FTIR), 紫外-可见分光光度计(UV-Vis), 原子吸收光谱仪(AAS), 电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS), 激光粒子计数器, 静电计, 化学发光分析仪, 电化学气体传感器, β射线吸收仪, 光散射颗粒物监测仪, 被动采样器, 活性炭吸附管