光刻机物镜波像差检测

信息概要

光刻机物镜波像差检测是半导体制造领域中的关键质量控制环节，主要用于评估光刻机物镜系统的光学性能。波像差会直接影响光刻图形的分辨率和精度，进而影响芯片的良率和性能。通过高精度检测，可以及时发现物镜系统的光学缺陷，为光刻机的校准和维护提供数据支持，确保半导体生产的高效性和稳定性。检测内容包括波前误差、像散、球差等多项参数，覆盖从研发到生产的全流程需求。

检测项目

波前误差RMS值，波前误差PV值，像散，球差，彗差，三叶像差，高阶像差，离焦量，畸变，场曲，色差，偏振像差，光瞳像差，Zernike系数，MTF（调制传递函数），PSF（点扩散函数），斯特列尔比，波前斜率，波前曲率，波前梯度

检测范围

DUV光刻机物镜，EUV光刻机物镜，i线光刻机物镜，g线光刻机物镜，KrF光刻机物镜，ArF光刻机物镜，浸没式光刻机物镜，干式光刻机物镜，步进式光刻机物镜，扫描式光刻机物镜，投影式光刻机物镜，反射式物镜，折射式物镜，折反式物镜，高NA物镜，低NA物镜，大视场物镜，小视场物镜，定制化物镜，量产型物镜

检测方法

干涉测量法：利用激光干涉仪测量波前相位分布，计算波像差。

Shack-Hartmann波前传感器法：通过微透镜阵列测量波前斜率，重建波前。

点衍射干涉法：利用点衍射产生理想球面波，与待测波前干涉。

相位恢复法：通过光强分布反推波前相位。

Zernike多项式拟合：将波像差分解为Zernike多项式系数。

MTF测量法：通过测量调制传递函数评估成像质量。

PSF测量法：分析点扩散函数特性。

条纹反射法：利用反射条纹变形测量波前。

横向剪切干涉法：通过波前横向剪切产生干涉条纹。

径向剪切干涉法：通过波前径向剪切测量像差。

白光干涉法：利用宽带光源消除相干噪声。

偏振像差测量法：分析偏振态变化对波前的影响。

动态像差测量法：实时监测物镜波像差变化。

全场波前测量法：一次性测量整个视场的波前。

高精度重复性测试：评估检测系统的稳定性。

检测仪器

激光干涉仪，Shack-Hartmann波前传感器，点衍射干涉仪，相位测量干涉仪，Zygo干涉仪，菲索干涉仪，泰曼-格林干涉仪，横向剪切干涉仪，径向剪切干涉仪，白光干涉仪，偏振像差测量仪，MTF测试仪，PSF分析仪，高精度位移台，波前曲率传感器

北检院部分仪器展示